WEP CVP21電化學C-V剖面濃度測量儀 德(dé)國WEP公司(sī)的CVP21電化學C-V剖面濃度測試儀可高效 、准(zhǔn)確的測量半導體材料（結(jié)構 ，層）中的摻雜濃度分布 。選用(yòng)合適(shì)的電解(jiě)液與材料接觸
、腐(fǔ)蝕(shí) ，從而得(dé)到材料的摻雜濃度分布 。電容值電壓掃描和腐(fǔ)蝕(shí)過程由軟件(jiàn)全(chéng)自動控(kòng)制 。 電化學ECV剖面濃度測試儀主要用(yòng)於(yú)半導體材料的研究及開發 ，其原理是(shì)使用(yòng)電化學電容-電壓法來測量半導體材料的摻雜濃度分布 。電化學ECV（