VPO-300快速退火爐 快速退火爐（RTP/RTA）是半導體材(cái)料(liào)和器件常用的一款工藝設(shè)備 。快速退火爐可以(yǐ)在真空(kōng)
、惰性(xìng)氣(qì)氛 、不(bù)同(tóng)的工藝氣(qì)體環境下(xià)使用 。VPO-300是一款很有特點的快速退火爐 ，有非常大的退火空(kōng)間 ，適(shì)合(hé)12英吋晶圓或300mm x 300mm大尺(chǐ)寸樣品的熱(rè)處理 。

RTP-150快速退火爐 升溫速度 ：150攝氏度每秒 ，可以(yǐ)用於大6英吋晶圓或者156mm x 156mm尺(chǐ)寸樣品熱(rè)處理 。RTP-150可以(yǐ)支持惰性(xìng)氣(qì)體保護 、低真空(kōng)或高真空(kōng)熱(rè)處理 。

RTP-100快速退火爐 升溫速度 ：150攝氏度每秒 ，可以(yǐ)用於大4英吋晶圓或者100mm x 100mm尺(chǐ)寸樣品熱(rè)處理 。RTP-100可以(yǐ)支持真空(kōng)或高真空(kōng)熱(rè)處理 。

RTP-1200快速退火爐 該儀器 ：尺(chǐ)寸小巧 ，使用風冷 、無(wú)須水(shuǐ)冷 ，電流要求不(bù)高（3安培） ，性(xìng)價(jià)比高 ，使用方便 ，非常適(shì)合(hé)科研(yán)院所的科研(yán)使用 。