RTP-150快(kuài)速退火爐(lú)

升溫(wēn)速度(dù) ：150攝氏度(dù)每秒 ，可以用於大6英吋晶圓(yuán)或者156mm x 156mm尺寸樣品熱(rè)處理 。RTP-150可以支持惰性(xìng)氣(qì)體保護 、低真空(kōng)或高真空(kōng)熱(rè)處理 。

技術規格 ：
- 溫(wēn)度(dù) ：1000攝氏度(dù) ，或1200攝氏度(dù)(選(xuǎn)配)
；
- 升溫(wēn)速率(lǜ) ：75攝氏度(dù)/秒 ，或150攝氏度(dù)/秒(選(xuǎn)配) ；
- 降溫(wēn)速度(dù) ：200攝氏度(dù)/分鐘 (1000攝氏度(dù)-->400攝氏度(dù)) ；
- 溫(wēn)控均勻性(xìng) ：≤ 1.5%設定溫(wēn)度(dù) ；
- 加熱(rè)方(fāng)式(shì) ：紅外鹵素燈 ，頂部及底部加熱(rè) ；
- 燈管(guǎn)數量及功率(lǜ) ：24支/21千瓦 ；
- 腔體冷卻 ：水冷方(fāng)式(shì) ；
- 襯底冷卻 ：氮(dàn)氣(qì)吹掃 ；
- 工藝氣(qì)路 ：MFC控制 ，多4路 (氮(dàn)氣(qì)
、氬氣(qì) 、氧(yǎng)氣(qì) 、氫氮(dàn)混合氣(qì)等) ；
- 主機(jī)尺寸及重量 ：505mm x 504mm x 420mm (W x D x H) ，約55Kg ；

 RTP-150快(kuài)速退火爐(lú)
儀器特點(diǎn) ：
- 快(kuài)速退火爐(lú) ，有惰性(xìng)氣(qì)體保護 、低真空(kōng)型(xíng)號(10-3 hPa) 、高真空(kōng)型(xíng)號(10-6 hPa)等多個配置 ；
- 可在(zài)不同氣(qì)氛環境下使(shǐ)用 ，如惰性(xìng)氣(qì)體 、氧(yǎng)氣(qì) 、氫氮(dàn)混合氣(qì)等 ；
- 控制方(fāng)式(shì) ：SIMATIC , SPS人機(jī)界面控制 ，7英吋觸摸屏 ；
- 可存儲50個程序 ，每個程序多分為50段控制 ；
- 全自動(dòng)智能(néng)控制 ，包括(kuò)溫(wēn)度(dù) 、時間 、氣(qì)體流量 、真空(kōng)度(dù) 、循環水均可自動(dòng)設置 ；
- 優異(yì)的(de)溫(wēn)控均勻性(xìng) ，的(de)工藝重現性(xìng) ；
- 台(tái)式(shì)設計 ；

 
應用領域 ：
- 離(lí)子注入/接觸退火 ；
- 快(kuài)速熱(rè)處理(RTP) ，快(kuài)速退火(RTA) ，快(kuài)速熱(rè)氧(yǎng)化(RTO) ，快(kuài)速熱(rè)氮(dàn)化(RTN) ；
- 可在(zài)真空(kōng) 、惰性(xìng)氣(qì)氛 、氧(yǎng)氣(qì) 、氫氣(qì) 、混合氣(qì)等不同環境下使(shǐ)用 ；
- SiAu
, SiAl , SiMo合金(jīn)化 ；
- 低介電材(cái)料(liào) ；
- 晶體化 ，致密化 ；
- 太陽能(néng)電池片鍵合 ；
等等...