光刻機/紫外(wài)曝光機 （Mask Aligner） 光刻機又名 ：掩模對準(zhǔn)曝光機 ，曝光系統 ，光刻系統 ，紫外(wài)曝光機等 ；ECOPIA為的半導體設備供應(yīng)商 ，多年來致力(lì)於掩模對準(zhǔn)光刻機和勻膠(jiāo)機研(yán)發與生(shēng)產(chǎn) ，並(bìng)且廣泛應(yīng)用於半導體 、微(wēi)電子(zǐ) 、生(shēng)物器件和納米科技領域 ；該公司是目前(qián)世界上早將光刻機商品化的公司之一 ，擁有雄厚的技術(shù)研(yán)發力(lì)量和設備生(shēng)產(chǎn)能力(lì) ；並(bìng)且其設備被眾多著名企業(yè) 、研(yán)發中心 、研(yán)究所和高校所採用 ；以