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光刻(kè)機/紫(zǐ)外曝光機 (Mask Aligner) 光刻(kè)機又名 :掩模對準曝光機 ,曝光系統(tǒng) ,光刻(kè)系統(tǒng) ,紫(zǐ)外曝光機等(děng) ;ECOPIA為的半(bàn)導體設備供應商 ,多(duō)年來(lái)致力於(yú)掩模對準光刻(kè)機和勻膠機研發與生產 ,並(bìng)且(qiě)廣泛應用於(yú)半(bàn)導體 、微電子 、生物器(qì)件和納米科(kē)技領(lǐng)域 ;該(gāi)公司是(shì)目前世界上早將光刻(kè)機商品化的公司之一(yī) ,擁有雄厚的技術研發力量和設備生產能(néng)力 ;並(bìng)且(qiě)其設備被眾多(duō)著名企(qǐ)業 、研發中心 、研究(jiū)所和高校所採用 ;以
更新時間 :2020-11-01
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